Fonti di contaminazione nascoste nelle camere bianche elettroniche
Nell’era della produzione di semiconduttori a 28 nm e più avanzata, i requisiti per la progettazione, la produzione e il confezionamento di circuiti integrati hanno raggiunto livelli senza precedenti. Mentre molti si concentrano sulla polvere visibile, diverse fonti di contaminazione “nascoste” spesso mettono a repentaglio i tassi di rendimento.
1. Rumore elettromagnetico (EMI)
Il rumore elettromagnetico generato da cavi ad alta corrente (ad esempio, nei forni di ossidazione), oscillazioni ad alta frequenza e interruttori elettromagnetici può interferire gravemente con la precisione di scansione delle apparecchiature a fascio di elettroni. L'impatto è inversamente proporzionale alla distanza dalla sorgente.
2. Microvibrazione
Le vibrazioni meccaniche dei motori delle pompe a vuoto e di altre apparecchiature possono essere trasmesse attraverso il pavimento a strumenti di litografia o microscopia ad alta precisione, compromettendone l'accuratezza. L'implementazione degli isolatori di vibrazioni delle molle pneumatiche è essenziale per attenuare questi disturbi.
3. Corrosione chimica e nebbia acida
Uno scarico locale insufficiente nelle cappe acide consente alle nebbie acide di diffondersi in tutta la stanza. Ciò può corrodere i componenti metallici delle apparecchiature interne: anche l'acciaio inossidabile esposto può arrugginire nell'aria carica di cloro. La soluzione più efficace è utilizzare cappe di ventilazione chiuse con adeguata capacità di scarico.
4. Contaminazione episodica (trasferimento e manutenzione)
Lo spostamento delle apparecchiature o l'esecuzione di revisioni importanti possono far salire alle stelle il numero delle particelle sospese fino a oltre 100 volte i livelli normali. Il movimento dei lavoratori e lo sfregamento delle attrezzature sui pavimenti sollevano la polvere depositata. Anche durante le ristrutturazioni parziali, il taglio di materiali come PVC o acciaio inossidabile genera polveri sottili che si diffondono rapidamente in tutta la struttura.
Conclusione
Finché il personale è in funzione e le apparecchiature sono in funzione, verranno generate particelle. Non tutte le particelle vengono catturate dai filtri HEPA attraverso la circolazione; molti si depositano su pavimenti, pareti e superfici delle apparecchiature. Una pulizia sistematica e regolare non è negoziabile per il mantenimento di un ambiente di semiconduttori ad alto rendimento.
