Sumber Kontaminasi Tersembunyi di Ruang Bersih Elektronik
Di era manufaktur semikonduktor 28nm dan lebih maju, persyaratan untuk desain, produksi, dan pengemasan sirkuit terpadu telah mencapai tingkat yang belum pernah terjadi sebelumnya. Meskipun banyak yang fokus pada debu yang terlihat, beberapa sumber kontaminasi "tersembunyi" sering kali membahayakan tingkat hasil.
1. Kebisingan Elektromagnetik (EMI)
Kebisingan elektromagnetik yang dihasilkan oleh kabel arus tinggi (misalnya, dalam tungku oksidasi), osilasi frekuensi tinggi, dan sakelar elektromagnetik dapat sangat mengganggu ketepatan pemindaian peralatan berkas elektron. Dampaknya berbanding terbalik dengan jarak dari sumbernya.
2. Getaran Mikro
Getaran mekanis dari motor pompa vakum dan peralatan lainnya dapat ditransmisikan melalui lantai ke alat litografi atau mikroskop presisi tinggi, sehingga mengurangi akurasinya. Penerapan Isolator Getaran Pegas Udara sangat penting untuk mengurangi gangguan ini.
3. Korosi Kimia & Kabut Asam
Kurangnya pembuangan lokal pada tudung asam memungkinkan kabut asam berdifusi ke seluruh ruangan. Hal ini dapat menimbulkan korosi pada komponen logam pada peralatan dalam ruangan—bahkan baja tahan karat yang terbuka pun dapat berkarat jika udara mengandung klorin. Solusi yang paling efektif adalah dengan memanfaatkan Enclosed Ventilation Hood dengan kapasitas pembuangan yang memadai.
4. Kontaminasi Episodik (Relokasi & Pemeliharaan)
Memindahkan peralatan atau melakukan perombakan besar-besaran dapat menyebabkan jumlah partikel tersuspensi meroket hingga lebih dari 100 kali lipat dari tingkat normalnya. Pergerakan pekerja dan gesekan peralatan pada lantai menimbulkan debu yang menempel. Bahkan selama renovasi sebagian, pemotongan bahan seperti PVC atau baja tahan karat menghasilkan bubuk halus yang dengan cepat menyebar ke seluruh fasilitas.
Kesimpulan
Selama personel beroperasi dan peralatan beroperasi, partikel akan dihasilkan. Tidak semua partikel ditangkap oleh filter HEPA melalui sirkulasi; banyak yang menempel di lantai, dinding, dan permukaan peralatan. Pembersihan yang sistematis dan teratur tidak dapat dinegosiasikan untuk menjaga lingkungan semikonduktor dengan hasil tinggi.
